Enscape 4.2 最新版本功能，實現了設計應用程式與工作流程更加緊密。這些更新也進一步強化了 Enscape 的優勢—與眾多主流建築設計程式的無縫整合，使設計師能以更快、更精確的方式工作。
Enscape Impact 外掛功能
Enscape Impact 是由全球氣候科技公司 IES 合作開發的一款全新附加元件，旨在將即時渲染與建築效能指標無縫整合。讓使用者可直接在工作流程中優化建築效能與永續性，從而提升設計師的創意視野。它主要可協助使用者快速進行能源建模模擬，在設計過程中迅速計算和評估關鍵指標，同時，數據也會顯示在算圖中，讓你更容易理解和傳達設計決策的影響。
此外，它整合式的工作流程，可在你的工作流程中直接進行分析，以便在設計初期確定能源效率和永續性。Enscape Impact 與大多數熱門的 CAD 和 BIM 工具無縫整合。而且只需輸入少量的數據（例如位置和建築類型），即可建立基準分析，並透過直覺易讀的圖表和示意圖來展示建築的能源效能，可直覺地觀察模型的調整會如何影響效能，為新手提供更易閱讀的指導。Enscape Impact 外掛目前僅支援 Windows 系統，並支援 Autodesk Revit、SketchUp、Rhino、Archicad 以及 Vectorworks 等設計軟體。
Revit Graphics Override
這個功能可以在算圖畫面中，查看由 Revit 篩選器所定義的材質和顏色覆蓋。此功能確保算圖工具可反映出與 Revit 中相同的物件外觀和覆蓋，提升工作流程與呈現的準確性。如此一來，設計師即可保持 Revit 和 Enscape 之間的一致性，當然，也可以 Enscape 中顯示或隱藏 Revit 篩選器覆蓋來控制你的視覺圖。
支援 Rhino 的 WCS 貼圖映射
此功能讓設計師可以將材質設定為使用「世界座標系統」（WCS）的貼圖映射方法，提供更靈活的工作流程，並確保貼圖與模型之間的真實比例和精準度，特別適用於預設使用 WCS 映射的素材庫材質。
軟體光線追蹤效果的改進
Enscape 4.2 改善了全局照明和陽光陰影的軟體光線追蹤功能。並可以在任何設備上，包括 Mac 和一體式顯示卡的電腦，藉此提供更好的算圖效果。可更精確地預測光線在現實世界中如何與建築或空間互動，以做出更好的設計決策。
除了有更真實的光影效果，還有鏡面的反射和增強的色彩準確更好。同樣，陽光陰影的軟體光線追蹤增強將使其受益於更準確的光源方向、強度和柔和度。但此功能目前還是有一些限制，例如，全局照明的反射效果，仍可能會發生缺少顯示一些模型，尤其是在使用軟體光線追蹤時。此外，光線追蹤的陽光陰影僅適用於捕捉，並且不支援有彩色的陰影；當場景中包含一定數量的動畫幾何形狀時，在較低的算圖設定下，這些動畫幾何物件將轉換為非光線追蹤的陽光陰影。
Rhino 和 Vectorworks 的多個切割平面
這次的更新也使 Enscape 支援在 Rhino 中，可運算多達六個切割平面，以及在 Vectorworks 中的切割立方體，提升設計的精確性和清晰度，以及更詳細的建物剖面。
美術視覺模式的改進
美術視覺模式是一個算圖風格，可在設計過程的概念階段輕鬆展示各種想法。Enscape 4.2 中的更新，加入的水彩模式可透過控制桿調整質感，而且彩色鉛筆和水彩模式，現在也可顯示透明材料的色調，而不是到處都是淺藍色的質感。除此之外，Enscape 4.2 現在也支援 Archicad 最新版本，包含 Mac 和 Windows 系統。
