RE:Vision Effects RE:Map

描述

RE:Map

RE:Map 提供專業品質的 uv 貼圖、置換和變形工具

RE:Map 總覧

RE:Map 還提供反向 UV 貼圖和角度固定。

Sony Eye Candy

使用 RE:Map UV 將顏料滴落在臉上，以加速客戶端更改動畫紋理的時間。

由 Süperfad 創造，索尼的新作品美得驚人，是對其全球品牌信息“make.believe”的超現實敬意，也是對令人眼花繚亂的樂趣致敬。

螢幕更換

Bonfire Labs從 3D 創作程式渲染 UV 貼圖，並使用 RE:Map 以交互方式替換合成程式中的客戶端影片。RE:Map 提供了更快的替代版本周轉，而無需返回到 3D 系統。

Symantec Higher Level

Stephen Fitzgerald在 08 年為 Gunshop 設計並製作了這個場景。

Lightwave 和 After Effects 中的動畫。使用 RE:Map UV 外掛將像素動畫反射到建築物上。

Nathan DeCaesar 協助製作了堆肥和像素動畫。

RE:MAP 功能特色

• 後製紋理貼圖
  使用從 3D 軟體渲染的 UV 貼圖輕鬆清理或替換合成程序中的紋理貼圖，而無需在 3D 軟體中重新渲染。
• 雙向作業
  RE:Map 允許您使用照片和匹配的 3D 物件，為您的 3D 渲染系統創造所需的紋理貼圖。
• 質量變形工具
  包括用於角落固定和 2D 位移貼圖的工具。

功能列表

• 高質量過濾
  高質量的圖像過濾，包括超級採樣和貼圖，進階功能用於處理抗鋸齒 UV 邊緣和物件的一部分與另一部分交叉的區域。
• 替換和重新渲染
  重新套用新的紋理序列，以便將動畫UV 貼圖重新用於酷炫的動畫和過場。調整、色彩校正、編輯，然後為 3D 動畫物件重新套用紋理，且無需在 3D 系統中重新渲染。
• 反 UV 映射
  在 2D 中繪製或對齊紋理以配對您的 3D 渲染圖像，並反向投射圖像以製作用於您的 3D 軟體或使用 RE:Map UV 的紋理貼圖
• 快速修改
  在後製時結合 UV 貼圖和紋理，無須在 3D 軟體中重新渲染。
• 角落固定
  映射或反向映射由 4 個點定義的透視平面（也稱為角落固定）。
• 位移貼圖
  利用使用者提供的位移貼圖將圖像變形，並使用比大多數其他位移貼圖過濾器更多的選項及進階的過濾控制。
• 漫畫
  能夠拍攝彩色圖像並根據漫畫效果的特徵自動調整。
• GPU 加速
  本產品採用 GPU 加速。

系統需求

支援 After Effects、Fusion Studio、Natron、Nuke、Scratch 和 Silhouette

• After Effects CS6、CC、CC 2014、CC 2015、CC 2017、CC 2018、CC 2019、CC 2020、CC 2021、CC 2022

OFX:

• Autograph(所有版本)
• Baselight 5.2.11675 (或更高版本)
• Flame 2019.2 (或更高版本)
• DaVinci Resolve 15.1.1 (或更高版本
• Fusion Studio 5.2 (或更高版本)
• Natron 1 (或更高版本)
• Nuke 5.1 or Indie 12.2 (或更高版本)
• Scratch 8.6.944
• Silhouette 6.1.3 (或更高版本)

*作業系統和硬體要求與您使用的主程式版本一樣，包括 Apple Big Sur 支援（目前僅支援 Rosetta 2）

目前只有 OFX 外掛支援 Apple M1 Silicon

退貨政策

朕宏國際線上商店退貨政策

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